商傳媒｜葉安庭／綜合外電報導
歐洲為提升在全球半導體產業的競爭力與韌性，積極推動《歐洲晶片法案》（European Chips Act），目標在2030年將歐洲在全球半導體生產的市佔率，從目前的不到10%提升至20%。
這項法案主要圍繞三大支柱展開。首先是「歐洲晶片倡議」（Chips for Europe Initiative），旨在支持半導體領域的研究、創新及試點生產，藉由資助先進的試產線、設計平台、能力中心及量子晶片開發等項目，彌合實驗室研究與產業應用間的落差。其次，法案將建立製造與投資框架；第三大支柱則聚焦供應鏈監控與危機應對。
《歐洲晶片法案》預計在2030年前，動員超過430億歐元（約新台幣1.46兆元）的公共與私人投資，以期在長期釋放更龐大的產業支出。
該法案的推出，是為了解決歐洲對亞洲晶圓代工廠的高度依賴。近年全球危機期間，供應鏈中斷突顯歐洲關鍵產業的脆弱性，這些產業仰賴穩定的半導體供應，才能維持全球競爭力。同時，各國政府紛紛投入大量公共資金發展本土晶片生產，也促使歐洲擔憂若無相對應的政策，可能錯失策略性投資機會。
《歐洲晶片法案》旨在使歐洲成為更具吸引力的半導體製造目的地，同時確保該地區在關鍵技術、先進製造流程及特殊應用領域保持不可或缺的地位。
在實際層面，該法案正在重塑歐洲半導體製造廠（或稱 fabs）的資金籌措與建設模式。新的國家援助框架允許成員國支持大型製造項目，特別是那些所謂的「首創」（first-of-a-kind）晶圓廠，其投資成本往往超過100億歐元。符合條件的項目包括先進邏輯和記憶體晶圓廠、功率、類比和化合物半導體設施，以及先進封裝、測試和組裝廠。
該法案並非僅關注最先進的製程節點，而是優先考慮對歐洲工業基礎具有戰略重要性的技術，包括車用晶片、基於碳化矽和氮化鎵的功率電子產品，以及用於工業、航太和國防應用的半導體。
試產線是《歐洲晶片法案》最顯著的特點之一，在將研究成果轉化為量產方面扮演關鍵角色。這些設施允許在新製造流程於商業應用擴大規模前，進行測試和完善。法案支持的試產線涵蓋廣泛的活動，包括2奈米及以下製程的開發、先進封裝和3D整合、新材料和元件架構，以及小批量製造和原型設計。
這些試產線以開放取用（open-access）設施的模式運作，支持那些無力負擔完整晶圓廠運作的新創公司和中小企業，以及希望驗證新製程的無晶圓廠晶片設計公司、設備和材料供應商。共享晶圓運行和通用製程設計套件（PDK）有助於降低整個半導體生態系的進入門檻。
這些試產線透過「晶片聯合事業」（Chips Joint Undertaking）進行協調，該機構連結研究組織、產業和國家資助機構，創建從早期研究和概念驗證，到試產線展示和良率學習，最終轉移到商業晶圓廠的結構化途徑。決策者認為，這條途徑對於將先進製造技術留在歐洲至關重要。
在此框架下，FAMES 和 NanoIC 試產線被設計為互補的倡議，涵蓋歐洲廣泛的先進半導體需求。 NanoIC 側重於超越2奈米節點的系統單晶片（SoC）技術，其創新是由極限縮放、諸如奈米片和互補式場效電晶體等新電晶體架構，以及高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影技術所驅動。其目標是確保歐洲在傳統上由少數非歐洲企業主導的領域保持活躍。
相比之下，FAMES 則以10奈米和7奈米節點上的全耗盡絕緣層上覆矽（FD-SOI）技術為中心，結合嵌入式非揮發性記憶體、射頻元件、電源管理和3D整合。它並非追求極限縮放，而是優先考慮複雜、真實系統的性能、能源效率、成本和永續性，這些系統在單一晶片上整合數位、類比和射頻功能。
今年二月，歐洲 NanoIC 試產線舉行開幕儀式，並啟動了泛歐2奈米以下晶片技術的試產線。NanoIC 試產線匯集歐洲領先研究機構CEA-Leti、Fraunhofer、VTT、CSSNT-UPB和Tyndall National Institute的綜合專業知識，並由imec擔任主導力量。這種整合方法有助於開發下一代半導體技術，同時使學術團隊、中小企業和新創公司能夠使用先進的製程設計套件（PDK）在試產線上設計和測試創新產品。該倡議在培訓和發展歐洲未來的半導體 workforce 方面也發揮著關鍵作用。
imec 執行長 Luc Van den hove 表示，自2024年5月宣布 imec 將主辦 NanoIC 試產線以來，他們已全速前進，加速工具採購並啟動全面的招聘計畫。這項努力已在魯汶總部擴建2,000平方公尺的無塵室達到高潮，該無塵室將配備一流的工具，包括艾司摩爾（ASML）的下一代 High NA EUV 掃描儀，預計將於3月中旬送達。
Van den hove 補充說，imec 已開始一項雄心勃勃的旅程，將半導體技術推向2奈米節點以下，透過提供對尖端半導體技術的取用權，NanoIC 試產線將在加強歐洲在 AI 時代的產業結構中，發揮關鍵作用。
Imec 還將很快在魯汶園區開始建設一個全新的 4,000 平方公尺無塵室，並且在未來五年內，NanoIC 試產線將整合一百多個新工具，分佈在 imec 以及 CEA-Leti、Fraunhofer、VTT、CSSNT-UPB 和 Tyndall National Institute 的合作夥伴站點。
這些試產線旨在解決歐洲半導體生態系統中的相同結構性弱點：即卓越研究與產業製造準備就緒之間的差距。NanoIC 為sub‑2 nm節點提供早期取用探路PDK和實驗製程流程，使歐洲設計人員和系統公司能夠在商業晶圓代工廠提供之前，探索架構。 FAMES 試產線更像是一個一站式商店，為所有歐盟利益相關者提供開放取用權。將成立一個專門團隊，為來自所有歐盟或理念相近國家的用戶提供開放取用機制。
歐洲擁有世界一流的研究機構，但一直在努力將突破轉化為領先節點的可製造技術。現在，NanoIC 和 FAMES 試產線旨在確保未來節點的關鍵知識、設計能力和製程專業知識牢牢掌握在歐洲手中。此舉對台灣半導體產業而言，既是潛在的競爭，也是合作的機會，台灣業者或可藉此機會，與歐洲建立更緊密的研發及生產夥伴關係。
